Materiales de revestimiento de película delgada de ITO sputtering meta             Nuestra fábrica de alta calidad de suministro Al2O3, SiO2, Si3N4, SiC, Nb2Ox, TiOx, Ito, AZO sputtering objetivos, así como muchos otros materiales compuestos. Como objetivos de sputtering de cerámica son muy frágiles con muy mala conductividad térmica, por lo que normalmente se pegan con la placa de cobre por el indio  O elastómero, para prolongar el tiempo de servicio. La tecnología de sinterización se utilizan  Para producir los objetivos de sputtering de cerámica, la forma pueden ser redondos y rectángulo. Para el destino de la ronda, el diámetro puede ser de 1" a 14", mientras que el espesor puede ser de 3 mm a 6, 35 mm de tamaño especial, puede ser personalizado. Rectángulo de destino, la construcción monolítica o varios paneles serán suministrados en función del tamaño.   Características Composición química: A2O3/SnO2 90/10wt% Pureza Disponible: 4N La tecnología de producción: Metalurgia de polvos Las formas: Planar metas, objetivos de rotary Densidad: ≥ 99, 3% La resistividad: ≤ 1.8Ω·mm2/m Coeficiente Deoxygenation: ≤ 0, 5% Tamaño disponible: El objetivo de la ronda, el diámetro ≤  16", un rectángulo de destino, según sus necesidades Indio pegado es recomendado para este material Ventajas: Color uniforme, superficie lisa, sin grietas, no hay astillado, sin inclusiones extranjeras y contaminantes.   Aplicación: Película conductor transparente                                                       Nuestra ventaja                                                                       Nuestro servicio Profesional y eficiente disponemos de un fuerte trabajo en equipo de profesionales, equipo de I+D. La fabricación de equipo, equipo de ventas y servicio postventa equipo. Ofrecen 12 horas de servicio más rápido.                                                                                                           El proceso de producción                                                           La aplicación del producto