El 99,99% de estaño de Sputtering meta de nitruro de titanio de alta pureza para recubrimiento de película fina

Tipo: Objetivo de cerámica
Forma: Rings, Wafers, Particles, Rod, Customization
Proceso de dar un título: TUV, YO ASI, CE

Products Details

Información Básica.

tiempo de entrega
5-7 días
Paquete de Transporte
vacío caja de madera
Especificación
Rings, wafers, particles, rod
Origen
China
Capacidad de Producción
500 toneladas/año

Descripción de Producto

1.Nombre:El 99,9% de pureza de nitruro de titanio (TiN) blanco de Sputtering meta de ceráMica
2.TamañO:Personalizados 1-8pulg.
3.Pureza:El 99,9%  
4.CertificacióN:ISO9001, SGS, CTI, RoHS

El nombre del producto El 99,9% de pureza de nitruro de titanio (TiN) blanco de Sputtering meta de ceráMica
Material De nitruro de titanio
El color Brown
El tamañO 1-8pulgadas, como solicitud
La pureza El 99,9%
Palabra clave Blanco de Sputtering de nitruro de titanio
Technics Pulvimetalurgia
Usa Semiconductor, PVD, la ECV.


TamañO:Dia 2"X 3~6mm ª,Dia 3"X 3~6mm ª,segúN las necesidades del cliente  


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99.99% Tin Sputtering Target High Purity Titanium Nitride for Thin Film Coating

 

El estáNdar de calidad (99.9)

El elemento

Valu(<Ppm)

El elemento

Valu(<Ppm)

El elemento

Valu(<Ppm)

Al.

25

Mg

2

Si

25

B

0.5

Mn

20

Ta

1

Bi

1

Mo

10

Ti

20

C

20

N

5

U

2

Cd

2.5

N.B.

50

W

20

Cr

30

Ni

25

Zr

0.1

Co

5

O.

50

 

 

Fe

95

P

10

 

 

 

Producto

Iniciar sesióN

La pureza

Formulario

Espec.

EstañO de alta pureza

 Szzzyj.En.Made-in-china.Com

 

3N5, 4N

Los objetivos de sputtering

El 50,8*5mm...

3N5, 4N

Rod

Dia2*5mm

3N5, 4N

El cable

Dia0.1-Dia5mm

3N5, 4N

Hoja

0.03-10mm de grosor

3N5, 4N

Los gráNulos

1-5mm

3N5, 4N

Polvo

Malla -200 etc   


La produccióN de alta densidad y de ceráMica de alta pureza sputtering objetivos para la investigacióN con tamañOs personalizados y composiciones personalizadas es nuestra ventaja.Todos los destinos son analizadas utilizando téCnicas incluyendo la mejor prueba de fluorescencia de rayos X (XRF) Descarga de resplandor, la EspectrometríA de Masas (GDM) y Plasma Acoplado Inductivamente (ICP).

 

A continuacióN Ofrecemos una lista no exhaustiva, pero sóLo una Muestra: Si usted no ve algo particular, póNgase en contacto con nosotros para solicitar una CotizacióN directamente.
 
FóRmula Objetivo de óXido La pureza FóRmula Objetivo de ceráMica La pureza
Al2O3 El óXido de aluminio 2N-4N AlN De nitruro de aluminio 4N
AZO El óXido de zinc aluminio 4N B4C El carburo de boro 2N5
BaTiO3 Titanato de Bario 4N Bi2TE3 El bismuto Telluride 4N
CeO2 ÓXido de cerio 4N Mn Nitruro de Boro 3N
CuO ÓXido de cobre 3N CIGS CuInGaSe 4N
Fe2O3 ÓXido féRrico 3N-3N5 Ci CuInSe 4N
HfO2 ÓXido de hafnio 4N Cu2S Sulfuro cuproso 4N 5N
En2O3 ÓXido de indio 4N CZTS CuZnSnS 4N
MgO El óXido de magnesio 4N MgF2 El fluoruro de magnesio 4N
MnO2 DióXido de manganeso 3N Si3N4 Nitruro de Silicio 3N
MoO3 El trióXido de molibdeno 4N SiC El carburo de silicio 3N
Nb2O5. El pentóXido de niobio 4N SnS2 Disulfuro de estañO 4N 5N
NiO ÓXido de níQuel 3N TiB2 El titanio Diboride 2N5
SiO2 El dióXido de silicio 4N 5N TiC Carburo de titanio 3N
SnO2 DióXido de estañO 4N TiN De nitruro de titanio 3N
Ta2O5. El pentóXido de táNtalo 4N YbF3 Ytterbium flúOr 4N-5N
TiO2 El dióXido de titanio 4N Fa3 El fluoruro de itrio 4N
V2O5. El pentóXido de vanadio 4N ZnS De sulfuro de zinc 4N
WO3 De trióXido de tungsteno 4N ZnSe El Zinc Selenide 4N
ZnO El óXido de zinc 4N-5N ZnTe El Zinc Telluride 4N
ZrO2 ÓXido de zirconio 4N ZrB2 El circonio Boride 3N
GZO El galio el óXido de zinc 4N LiCoO2 El litio Cobaltate 3N
ITO ÓXido de estañO indio 4N SrRuO3 El estroncio Ruthenate 3N
IZO Indio, el óXido de zinc 4N SrTiO3 Titanato de estroncio 3N
99.99% Tin Sputtering Target High Purity Titanium Nitride for Thin Film Coating

Nuestros objetivos de sputtering consisten principalmente en metales puros y aleaciones, disponible tanto en plana y girar las formas. 
Los objetivos de Rhexon destacados:
1.Metal Puro: 
Ti, en el ZR, Ta, Nb, Mo, W, Ni, Cr, Al, Zn, IS, Cu,ITO,AZO.TZO,ASEO,Nb2O5,TiO2, SiO2 con la plana y de tipo rotativo.

2.aleacióN tíPico  objetivo  :
1) de Ti/al   objetivo de aleacióN  (67:33,50:50por ciento)
2) W/  destino de aleacióN de Ti  (90:10wt%),  
3) Ni la  aleacióN/V  objetivo (93:7,wt%)
4) Ni la  aleacióN/Cr  objetivo   (80:20, 70:30,wt%),  
5) al    objetivo de la aleacióN/Cr  (70:30,50:50por ciento)
6) Nb/Zr    objetivo  (aleacióN de 97:3,90:10wt%
7) Si/al   objetivo de aleacióN  (90:10,95:5,98:2,70:30,wt%)
8) Zn/ aleacióN al.
9)Cr puro   objetivo  (99,95%, el 99,995%)
10)al   objetivo de la aleacióN/Cr (70:30, 50:50,15:85,67:33,wt%y  en %)
11) ni de  aleacióN de cobre y de  destino (70:30,80:20,wt%)
12)al   objetivo de la aleacióN/Nd (98:2wt%)
13)Mo/Nb de   destino (aleacióN de 90:10,wt%)
14)TiAlSi  Objetivo (aleacióN de Ti/Al/IE=30/60/10, 33/67, 40/50/10 ,y en el wt%%)
15)  AleacióN CrAlSi objetivo (Cr/Al/IE=30/60/10 ,y en el wt%%)y asíSucesivamente, y la ayuda de material objetivo

99.99% Tin Sputtering Target High Purity Titanium Nitride for Thin Film Coating
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Informe de certificacióN
99.99% Tin Sputtering Target High Purity Titanium Nitride for Thin Film Coating

PóNgase en contacto con nosotros

Centro de la Metalurgia TECH LTD
TEL:     +86-15014149381 0086-755-27426325
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