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Información Básica.
Descripción de Producto

Objetivo de espumación de óxido de hafnio
Pureza: 99,9%, 99,99%
Método de producción: Sinterización de prensa caliente
Dimensiones disponibles:
Circular: Diámetro = 3 mm
Rectangular: Longitud = 3 mm
Tipo de enlace: Indium, elastómero
Materiales relacionados con el esputo
ZnO - objetivo de espumación
TiO2 objetivo de pulverización
MnO2 objetivo de pulverización
Objetivo de esputo de estaño
Si3N4 objetivo de sputtering
Objetivo de esputo Al2O3
Objetivo de sputtering SIC
Objetivo de esputo Co2O3
Objetivo de la lanza de ALN
ITO escupir a Target
VO2 objetivo de pulverización
SiO2 objetivo de pulverización
Fe2O3 objetivo de esputo
Objetivo de espumación de MgO
SnO2 objetivo de pulverización
Blanco de escupir
Nio escupir a blanco
MoO3 objetivo de pulverización
WO3 objetivo de pulverización
LiFePO4 objetivo de pulverización
Objetivo de sputtering ZNS
Objetivo de esputo Bi2Te3
Objetivo de esputo Ga2O3
Objetivo de esputo In2O3
Objetivo de esputo Ta2O5
Objetivo de espumación Nb2O5
/ HfO2 dianas cerámicas COA

1. Mejorar y preservar las propiedades superficiales de los materiales, garantizando una dureza superior, una resistencia excepcional al desgaste y una resistencia robusta a la corrosión;
2. Vital para el desarrollo de materiales de vanguardia o para aumentar el rendimiento de los materiales actuales, incluyendo células solares, LED y pantallas planas;
3. Esencial para la fabricación de componentes electrónicos de alto rendimiento, como transistores y circuitos integrados;
4. Integral en la producción de superconductores, películas ópticas, sensores y una variedad de materiales avanzados.
Productos relacionados:


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