Nombre del producto: Tantalum de alta pureza nitruro esputtering Blanco tan

Categoría: Material objetivo

Keywords: Objetivo de nitruro de tantalio, objetivo de esputo, deposición de pelicula delgada, material de recubrimiento PVD, Industria de semiconductores, Material de alta pureza, material blanco cerámico, depósito de vacío, tecnología de película fina, depósito de vapor físico

Descripción: Eleve su tecnología de película fina con nuestro objetivo de espumación de Tantalum de alta pureza. Diseñado específicamente para la industria de semiconductores, este material cerámico objetivo es ideal para aplicaciones de recubrimiento PVD. Con una composición excepcional de alta pureza, nuestro objetivo de nitruro de tántalo garantiza un rendimiento superior en los procesos de deposición al vacío. Consiga una deposición precisa, uniforme y fiable de película fina con confianza, gracias a la calidad excepcional de este objetivo de pulverización. Mejore la eficiencia, productividad y eficacia de sus operaciones de recubrimiento PVD con nuestro objetivo de espumación de nitruro de tantalio. Comprométase con la excelencia e invierta en soluciones de primer nivel para sus necesidades tecnológicas de película fina.