Suministramos varios tipo de target ,objetivo giratorio ,Planar destino. Coincide con el sistema de revestimiento PVD diferentes, tales como von Ardenne, BOC, Aire acondicionado, Amat y otros sistemas de revestimiento personalizados. También ofrecemos material nuevo proyecto Moldura/producción/prueba /sample hacer/revisión/tamaño de la marca y/elemento de personalización del servicio de control, y a una parada de compras, servicio de pedidos de muestras. Ofrecemos una mayor precisión patentada de productos de grado superior Con un stop shopping y el mejor servicio ,mejor valor.   Fabricamos todo tipo de objetivos en el tubo de tamaños, en tamaños de placas. * El Aluminio * El cromo (Cr). * El Cobre Latón /(Cu) * Indio (EN) * Óxido de estaño indio (ITO) * Molibdeno (Mo) * Niobio (Nb) * De óxido de niobio (Nbox) * Silcon (Si/SiAl/SiB/SiCr/SiP) * En aluminio de silicio (SiAl) * La Plata (Ag) * Acero Inoxidable * El tantalio (Ta) * De estaño (Sn) * El titanio(Ti) * El óxido de titanio (TiOx) * El Zinc (Zn) * El zinc aluminio (ZnAl) * El Óxido de Zinc / óxido de aluminio (ZNO) * El circonio (Zr) *de carbono (C)(grafito pirol�ico) *YBCO/CIGS/CdTe/H/CZST *La parte trasera de destino de la tierra *B4C/Sic/Tic/Si3N4/AlO2/ZRo2/TIB2/TIC/GZo/Óxido de Zinc de óxido de níquel/ITO/Nbox/Tiox y así sucesivamente. *De carburo,de óxido de nitruro de,Boride, Planar, sulfuro de Sputtering tubo/Objetivos. Los objetivos de gama alta y alta tecnología de aleación de metal de los objetivos. Todos los materiales que se limpian, inspeccionados, químicamente probado y envasado bajo gas inerte para su uso inmediato en su sistema de vacío. * Mayor pureza ,una precisión mayor Target *De gama alta de Sputtering Objetivos * Los Objetivos de Sputtering Planar/tubo/hoja * La aleación de alta pureza Sputtering Objetivos * Los Objetivos de Sputtering óxido * Los Objetivos de Sputtering Boride * Los Objetivos de Sputtering carburo * Los Objetivos de nitruro de sputtering * El fluoruro de Sputtering Objetivos * El Fosfuro de fosfato de Sputtering Objetivos * Los Objetivos de Sputtering cerámica * Cola en el servicio de la placa de refuerzo * Al2O3/Sb2O3/BaTiO3/BiFeO3/Bi2O3/CeO2/Cr2O3/CrSiO/CuO/Dy2O3 * Er2O3/EuNiO3/Ga2O3 /HfO2/HO2O3/IGZO/In2O3/ITO/IZO/Fe2O3/Fe3O4/LAGP/. *LaAl2O3//PbTiO PbO3/PbZrO3[ZrxTi/Pb1-x]S3/ materiales piezoeléctricos LiNbO3/(Li3PO4) LiPON/. *Li3Ti5O12/MgO/MoO3/LLZO/Nd2CuO4/NdNiO3/NiO/Nb2O5/Pr6O11/Sm2O3 * Sc2O3/SiO2*/TA2O5/Tb4O7/Tm2O3/SnO2/TiO2/TiO/WO3/V2O5/V/Yb2O3/. * Yb2O3/ZnO/Ga2O3/ ZnMgO/ZnO/ZrO2 1pc MOQ de cerámica de óxido de servicio de personalización de la muestra deseada está disponible.